投稿者情報
ニックネーム：K.O
大阪大学/理学研究科物理学専攻/ 21年
選考企業情報
企業名（正式名称）：東京エレクトロン株式会社
職種：研究開発職（要素技術開発）
インターン参加：参加していない
最終選考結果：最終選考通過(内定)
本選考エントリーシート
エントリーシート提出期日：2月上旬
提出方法：マイページ上
質問：東京エレクトロンを志望する理由（入社したら、どんな仕事で、どんな風に活躍したいかも含めて）。400文字以内
回答
貴社を志望する主な理由としては、最先端の技術で世界と戦いたいと思ったからです。インゴッドを何百倍もの価値に引き上げることのできる半導体製造装置の分野及び技術は、今後ますます発展すると考えています。その中でも製造装置のほぼ全工程の装置を開発し、販売している貴社で働くことができれば、常に最先端の技術に触れ、また最先端の技術を自ら生み出すことができると思います。現在、世界の半導体製造メーカーと肩を並べ競い合っている貴社ですが、残念ながらトップとの差は大きなものです。しかし、私はそのトップとの差を縮めたいと思っております。装置にさらなる付加価値を付けられるように、装置の性能を最大限に引き出し、またさらなる性能の向上や新規プロセスの開発のために、プロセスエンジニアとしてより良い技術の開発に努め、世界一の半導体メーカーを目指したいと考えております。
質問：力を注いだ科目または研究テーマとその概要。400文字以内
回答
私の研究テーマは「ECRイオン源の開発」です。私の所属する研究グループは、加速器と呼ばれる装置について研究をしています。具体的には、大阪大学が保有する加速器の性能向上や応用研究などを行っています。加速器はイオンと呼ばれる微粒子を加速させる装置であり、基礎的な科学実験や医学・産業への応用利用に使用されます。私は、その加速器へイオンを供給する「イオン源」という装置に関して研究を行っています。主な研究目的は、イオン源の性能向上です。イオン源の性能を向上させることが、加速器の性能向上に繋がります。具体的な研究内容としては、電場や磁場などの解析によるイオン源の最適構造の考察や、イオン源装置の実調整などが挙げられます。
質問：自己PR。400文字以内
回答
私の長所は、目標のために努力ができるところです。私は4年間アメリカンフットボール部に所属していました。入部当初はボールを扱うのが苦手だったこともあり、同級生に差をつけられていました。一年生で活躍するような同級生もいたのですが、私はベンチで見ていることしかできませんでした。同級生に追いつきたい、追い越したいの一心で自分が上達するために何が必要か考えました。そして、普段の練習以外に自主練習としてのウエイトトレーニングを行いました。他の選手よりも多い回数をこなすのはもちろんですが、具体的には、効果的なメニューの組み方、休息の入れ方、食事内容や食事の回数とタイミングやトレーニングの方法を自ら調べてトレーニングを行いました。その結果、3年生の時には挙げられる重さの数字としてチーム内で上位となり、4年生では副将を任され、ランニングバックというポジションでエースとして活躍することができました。
各質問項目で注意した点：
特に研究テーマについて言えることだが、人事部と技術職の方の両方が理解できるような文章を心掛けた。具体的には、込み入った内容は述べずに、概要と目的のみに内容を絞った。
結果通知時期：2週間以内
結果通知方法：メール
